第一節(jié) 上游 行業(yè) 發(fā)展狀況 分析

一、銅 行業(yè) 的發(fā)展狀況

2008年11月份，全國精煉銅產(chǎn)量為33.02萬噸，同比下降2.3%；11月份，國內(nèi)市場銅現(xiàn)貨平均價為32048元/噸環(huán)比下降13.6%，同比下降48.4%。2008年1～11月，全國銅產(chǎn)量341萬噸，增長9.6%，回落8.9個百分點。2008年10月份中國精煉銅產(chǎn)量同比減少8%至29.39萬噸，1-10月總產(chǎn)量同比增加11%至307.75萬噸。

1、中國進出口精煉銅 分析

據(jù)中國海關(guān)統(tǒng)計數(shù)據(jù)顯示，1-9月份，國內(nèi)進口精煉銅1-9月進口同比下降17.43%，至138，727噸。另外，出口方面，9月份精煉銅同比下降43.05%至2.443噸，1-9月份累計精煉銅出口下降1.36%至92.101噸。整體進出口情況與上年相比都低，這也說明凈進口量要想全年超過上年估計很困難，國際環(huán)境直接殃及魚池。

2、中國精煉銅產(chǎn)量 分析

據(jù)中國國家統(tǒng)計局最新公布，10月精煉銅產(chǎn)量同比下降8%，至293，900噸，1-10月精煉銅累計產(chǎn)量為3，077500噸，至2007年同期增加11%。而中國9月銅產(chǎn)量較上年同期增加4.7%，至317，000噸。1-9月銅產(chǎn)量較上年同期增加13.7%，至280萬噸。這兩組數(shù)據(jù)顯示說明國內(nèi)需求疲軟促使企業(yè)出現(xiàn)減少產(chǎn)量來面對這次金融危機風暴。

二、鋁 行業(yè) 的發(fā)展狀況

受宏觀經(jīng)濟形勢影響，2008年我國鋁 行業(yè) 經(jīng)營環(huán)境急轉(zhuǎn)直下，整個產(chǎn)業(yè)鏈陷入需求不足、發(fā)展增速下降的困境。2008年全年電解鋁產(chǎn)量1318萬噸，增長7.7%，回落26.1個百分點。其中自2008年9月國際金融危機全面爆發(fā)以來，電解鋁月度產(chǎn)量開始出現(xiàn)負增長，到目前為止，全國電解鋁減產(chǎn)約350萬噸。主要有色金屬價格大幅波動。一季度，國內(nèi)外市場主要有色金屬價格保持升勢，4月份開始逐步回落，9月份以后大幅下跌。2008年12月份，國內(nèi)市場鋁現(xiàn)貨平均價為11152元/噸，比年內(nèi)最高價下跌43.1%，同比下跌37.9%。1-11月，有色金屬 行業(yè) 累計實現(xiàn)利潤1015億元，同比下降25.8%。

三、鋼鐵 行業(yè) 的發(fā)展狀況

2008年我國鋼鐵工業(yè)在國際、國內(nèi)宏觀經(jīng)濟背景下，經(jīng)歷了市場由需求旺盛到低迷的快速轉(zhuǎn)變。上半年鋼鐵 行業(yè) 在原燃料大幅度上漲的情況下，生產(chǎn)水平保持適度增長，鋼材價格不斷攀升，鋼鐵產(chǎn)品出口明顯回落，實現(xiàn)效益創(chuàng)下歷史新高。進入下半年，受國際金融危機和國內(nèi)經(jīng)濟減緩的影響，鋼鐵 行業(yè) 生產(chǎn)經(jīng)營外部環(huán)境發(fā)生了重大變化，生產(chǎn)水平逐月下降，鋼材價格急劇下跌，產(chǎn)品出口由低到高，盈利空間不斷縮小。

2008年鋼鐵工業(yè)總體運行情況是：上半年總體保持穩(wěn)定較快發(fā)展，產(chǎn)品價格和企業(yè)利潤創(chuàng)歷史最高水平；下半年鋼材價格大幅回落，生產(chǎn)經(jīng)營發(fā)生逆轉(zhuǎn)，減產(chǎn)面一度高達30%。全年粗鋼產(chǎn)量50049萬噸，鋼材產(chǎn)量58177萬噸，分別比上年增長1.1%和3.6%，增幅同比回落14.6個和19.1個百分點。鋼材出口5923萬噸，下降5.5%；進口1543萬噸，下降8.6%；鐵礦砂進口44356萬噸，增長15.9%。12月份，粗鋼產(chǎn)量和鋼材產(chǎn)量分別下降10.5%和1.7%，降幅分別比上月縮小1.9個和9.3個百分點。

鋼材價格高起高落、低位趨穩(wěn)。2008年12月末國內(nèi)市場鋼材價格綜合指數(shù)為103.3，比上月末上漲1點。重點監(jiān)測的11種鋼材品種中，12月末有10種產(chǎn)品價格較11月末上漲，平均漲幅為2%，6.5mm盤條、10mm中板、0.5mm冷軋薄板平均價分別為3589元/噸、3863元/噸和4668元/噸，比上月末上漲21元/噸、92元/噸和59元/噸。前11個月，冶金 行業(yè) 實現(xiàn)利潤2481億元，增長9.2%。

第二節(jié) 下游產(chǎn)業(yè)發(fā)展情況 分析

一、2008年我國電子信息產(chǎn)業(yè)的發(fā)展狀況

2008年，我國電子信息產(chǎn)業(yè)保持平穩(wěn)發(fā)展，產(chǎn)業(yè)規(guī)模不斷擴大，結(jié)構(gòu)調(diào)整繼續(xù)深化。2008年1～11月，我國規(guī)模以上電子信息產(chǎn)業(yè)累計實現(xiàn)主營業(yè)務(wù)收入51747.7億元，同比增長16%，其中，制造業(yè)累計實現(xiàn)44770.4億元，同比增長14%；制造業(yè)實現(xiàn)工業(yè)增加值10421.2億元，同比增長16.9%。

2008年以來，我國電子信息產(chǎn)品進出口貿(mào)易保持平穩(wěn)較快增長態(tài)勢，但自下半年起增幅明顯回落。1～11月，電子信息產(chǎn)品累計進出口總額8242.2億美元，同比增長13.3%，增幅比上年同期下降10.3個百分點，低于同期全國商品進出口增幅7.6個百分點。

1～11月，電子信息產(chǎn)品進口總額3400億美元，同比增長8.63%，增幅比上年同期下降11.7個百分點，低于同期全國外貿(mào)進口增幅14.2個百分點，占全國外貿(mào)進口額的32%，對全國外貿(mào)進口增長的貢獻率達13.7%。進出口結(jié)構(gòu)不斷調(diào)整。通信設(shè)備、計算機、家用電子電器在出口中占據(jù)主導(dǎo)地位，電子器件、電子材料、電子儀器設(shè)備出口仍保持較快的增長速度，成為促進結(jié)構(gòu)調(diào)整的新生力量。

2008年1～12月，我國主要電子產(chǎn)品生產(chǎn)情況如下：共生產(chǎn)電視機9123萬臺，比2007年同期增加了4.03%，其中彩色電視機共生產(chǎn)9033.08萬臺，比2007年同期上升了6.00%；數(shù)碼相機產(chǎn)量達到8665萬臺，相比2007年同期的7405.98萬臺增長了17%；移動電話產(chǎn)量達6億部，比2007年同期5.5億部增加了9%；共生產(chǎn)微型電子計算機14703萬臺，比2007年同期的12897.37萬臺增加了14%%；共生產(chǎn)筆記本電腦110298萬臺，比2007年同期的8677.42萬臺增加了27.1%；共生產(chǎn)顯示器14702萬臺，比2007年同期的15808.6萬臺減少了7%；集成電路總產(chǎn)量達到417.14億塊，比2007年同期增加了2.4%。

二、2008年我國機械工業(yè)的發(fā)展狀況

2008年我國機械工業(yè)總產(chǎn)值達90740億元，其中工業(yè)增加值超過2.2萬億元。2008年我國機械工業(yè)在連續(xù)實現(xiàn)6年20%以上高速發(fā)展的基礎(chǔ)上，結(jié)構(gòu)調(diào)整取得新進展，整體實力和水平繼續(xù)提高，國際競爭力進一步增強。

2008年，我國機械工業(yè)產(chǎn)銷分別增長23.43%和23.26%。前11個月，實現(xiàn)利潤總額4605億元，同比增長16.42%。重大裝備的研制實現(xiàn)了許多新的突破，節(jié)能減排技術(shù)取得一批重要成果。在連年大幅增長的基礎(chǔ)上，2008年重要機械產(chǎn)品產(chǎn)量再創(chuàng)歷史新高。在列入快報統(tǒng)計的109種主要產(chǎn)品中，創(chuàng)歷史新高的有75種，占全部品種的68.8%。其中，大中型拖拉機產(chǎn)量超21萬臺，同比增長12.8%；發(fā)電設(shè)備產(chǎn)量超過1.3億千瓦，再創(chuàng)歷史新高；汽車全年累計生產(chǎn)934.55萬輛，銷售938.05萬輛，分別增長5.14%和6.70%。2008年我國機械產(chǎn)品進出口總值達4373億美元，同比增長20.91%；其中出口2425億美元，增長25.7%，外貿(mào)順差477億美元，比上年凈增235億美元，增長97.46%。2008年我國機械產(chǎn)品自給率已超過80%，對全國工業(yè)產(chǎn)值、利潤增長的貢獻率分別達18.49%和63.93%，對全國外貿(mào)出口增長的貢獻率達23.55%，較好地發(fā)揮了支柱產(chǎn)業(yè)的作用，為國民經(jīng)濟發(fā)展和建設(shè)做出了應(yīng)有貢獻。

三、2008年我國環(huán)保 行業(yè) 的發(fā)展狀況

2008年第4季度，受經(jīng)濟危機影響，環(huán)保產(chǎn)業(yè)雖然增速有所放緩，但仍保持較高速度的增長。

1～11月份全國環(huán)保、社會公共安全等專用設(shè)備制造業(yè)工業(yè)總產(chǎn)值1075.63億元，同比增長27.38%，工業(yè)銷售產(chǎn)值1034.10億元，同比增長27.66%，增速分別比上年同期下降了9.66和12.08個百分點。

2008年4季度，我國環(huán)保專用設(shè)備產(chǎn)量增速明顯下降，到12月底，全國累計生產(chǎn)環(huán)保專用設(shè)備117918臺（套），同比增長26.27%，增速下降了3.64個百分點。分產(chǎn)品看，環(huán)境監(jiān)測儀器儀表產(chǎn)量在扭轉(zhuǎn)了2007年產(chǎn)量下降的態(tài)勢之后，第4季度產(chǎn)量繼續(xù)增長，累計生產(chǎn)55126臺，同比增長38.8%，其中10、11月份產(chǎn)量分別同比增長118.3%和34.84%。水質(zhì)污染防治專用設(shè)備產(chǎn)量增速放緩，4季度累計生產(chǎn)10230臺（套），同比下降1.16%，增速同比下降了5.65個百分點。固體廢棄物處理設(shè)備產(chǎn)量有所上升，1～12月累計生產(chǎn)5242臺（套），同比增長3.27%。噪音與振動控制設(shè)備產(chǎn)量較2007年有所回升，12月份累積生產(chǎn)1143臺（套），同比增長7.83%。大氣污染防治設(shè)備和環(huán)保藥劑與材料產(chǎn)量均較上年有顯著增長，4季度這兩種環(huán)保產(chǎn)品的產(chǎn)量分別為60430臺（套）和42.6萬噸，分別同比增長15.53%和23.36%。

第三節(jié) 產(chǎn)品技術(shù)發(fā)展現(xiàn)狀

真空金屬鍍膜中常用的方法有真空蒸發(fā)和離子濺射。真空蒸發(fā)鍍膜是在真空度不低于10-2Pa的環(huán)境中，用電阻加熱或電子束和激光轟擊等方法把要蒸發(fā)的材料加熱到一定溫度，使材料中分子或原子的熱振動能量超過表面的束縛能，從而使大量分子或原子蒸發(fā)或升華，并直接沉淀在基片上形成薄膜。離子濺射鍍膜是利用氣體放電產(chǎn)生的正離子在電場的作用下的高速運動轟擊作為陰極的靶，使靶材中的原子或分子逸出來而沉淀到被鍍工件的表面，形成所需要的薄膜。

真空蒸發(fā)金屬鍍膜最常用的是電阻加熱法，其優(yōu)點是加熱源的結(jié)構(gòu)簡單，造價低廉，操作方便；缺點是不適用于難熔金屬和耐高溫的介質(zhì)材料。電子束加熱和激光加熱則能克服電阻加熱的缺點。電子束加熱上利用聚焦電子束直接對被轟擊材料加熱，電子束的動能變成熱能，使材料蒸發(fā)。激光加熱是利用大功率的激光作為加熱源，但由于大功率激光器的造價很高，目前只能在少數(shù) 研究 性實驗室中使用濺射技術(shù)與真空蒸發(fā)技術(shù)有所不同。“濺射”是指荷能粒子轟擊固體表面（靶），使固體原子或分子從表面射出的現(xiàn)象。射出的粒子大多呈原子狀態(tài)，常稱為濺射原子。用于轟擊靶的濺射粒子可以是電子，離子或中性粒子，因為離子在電場下易于加速獲得所需要動能，因此大都采用離子作為轟擊粒子。濺射過程建立在輝光放電的基礎(chǔ)上，即濺射離子都來源于氣體放電。不同的濺射技術(shù)所采用的輝光放電方式有所不同。直流二極濺射利用的是直流輝光放電；三極濺射是利用熱陰極支持的輝光放電；射頻濺射是利用射頻輝光放電；磁控濺射是利用環(huán)狀磁場控制下的輝光放電。

濺射技術(shù)鍍膜與真空蒸發(fā)金屬鍍膜相比，有許多優(yōu)點。如任何物質(zhì)均可以濺射，尤其是高熔點，低蒸氣壓的元素和化合物；濺射膜與基板之間的附著性好；薄膜密度高；膜厚可控制和重復(fù)性好等。缺點是設(shè)備比較復(fù)雜，需要高壓裝置。

此外，將蒸發(fā)法與濺射法相結(jié)合，即為離子鍍。這種方法的優(yōu)點是得到的膜與基板間有極強的附著力，有較高的沉積速率，膜的密度高。

1、手機真空鍍膜技術(shù)

目前，用于手機真空鍍膜主要分為三種：

1）手機品EMI電磁屏蔽，此類鍍膜可以應(yīng)用于手機的表面鍍膜處理，也可以直接替代原有的機殼內(nèi)部的噴涂金屬屏蔽漆。

2）手機屏幕的[wiki]光學(xué)[/wiki]涂層，此類鍍膜已達到特定的光學(xué)性能，同時增加屏幕的[wiki]機械[/wiki]性能，目前已廣泛應(yīng)用。

3）手機外殼裝飾性鍍膜，此類鍍膜主要目的是達到手機外殼給消費者以逼真的金屬感。同時可以起到第一項中的EMI電磁屏蔽作用。

2、鋼帶真空鍍膜技術(shù)

1）電子束鋼帶真空鍍膜具有很多優(yōu)點：

（1）可選擇的鍍膜材料多而不受材料熔點限制。能量密度很高的電子束可以使鍍膜材在很短的時間達到3000℃~6000℃。因此，除了熱鍍鋅中常見的鍍鋅、鋁、錫之外，幾乎所有的金屬材料都可以蒸鍍，還可鍍種類眾多的金屬氮化膜，金屬氧化膜和金屬炭化物及各種復(fù)合膜。這為發(fā)展新型帶鋼材料提供了很大的自由度。

（2）鍍膜材料利用率高，環(huán)境污染小。真空鍍膜屬干式鍍膜，沒有有害液體、氣體的產(chǎn)生。

（3）帶鋼鍍膜質(zhì)量好，能獲得均勻、平滑且極薄的鍍膜，鍍膜純度高，耐蝕性和附著力好。鋼帶鍍膜前可經(jīng)電子束預(yù)熱表面活化，鍍膜純度高，沒有中間硬脆的合金層，可以一次沖壓成型，甚至可以卷成直經(jīng)很小的管而不脫落鍍層。

（4）工藝靈活，改變品種方便，可以根據(jù)產(chǎn)品要求靈活地實現(xiàn)在鋼帶上鍍單面、雙面、單層、多層，可以同時鍍兩種材料達到鍍混合膜。鍍膜厚度易于控制，而且可以鍍制超薄膜。

但是，帶鋼真空鍍膜總的來說仍處在發(fā)展的初級階段，在帶鋼表面處理中所占份額目前還遠不能與熱浸鍍、電鍍相比。阻礙帶鋼真空鍍膜發(fā)展的主要原因是生產(chǎn)率低，成本較高。最有效的解決方法是開發(fā)研制高速，穩(wěn)定的高功率蒸發(fā)源。

2）關(guān)鍵技術(shù)

大功率電子槍的開發(fā)和使用是帶鋼真空鍍膜中的關(guān)鍵技術(shù)。一般的真空蒸發(fā)鍍膜可以采用電阻加熱和感應(yīng)加熱。它的設(shè)備較簡單，但加熱溫度和蒸發(fā)速率較低。要滿足連續(xù)式工業(yè)化生產(chǎn)鋼帶真空鍍膜的需要，就必須使用加熱速度快，熔化溫度高的熱源。國內(nèi)外實踐證明，大功率電子槍是鋼帶連續(xù)真空鍍膜工藝的理想熱源。這是因為：

（1）電子槍發(fā)射的電子束經(jīng)聚焦后可達到極高的能量密度，轟擊坩堝鍍膜材料，可使其溫度達到3000℃以上，遠比電弧溫度高。

（2）電子束能量轉(zhuǎn)化率高達80%-90%，采用磁偏轉(zhuǎn)系統(tǒng)可以方便地進行電子束聚焦和掃描，加熱均勻。

（3）電子束只轟擊鍍膜材料表面，不會由于其它材料的摻入而引起夾雜問題。（4）電子槍使用時的束斑直徑、電功率、加束電壓、掃描軌跡、頻率等參數(shù)都容易實現(xiàn)調(diào)節(jié)。（5）使用電子槍還可以在鋼帶鍍膜生產(chǎn)過程中對被鍍鋼帶進行真空預(yù)熱，就是使用電子槍清潔鋼帶，轟擊表面使其活化。通過電子束不停的掃描，鋼帶表面溫度控制在200~550℃，這種預(yù)熱是鋼帶鍍膜和提高鍍膜附著力所必須。

第四節(jié) 產(chǎn)品工藝特點或流程

1、真空金屬鍍膜工藝概述

真空金屬鍍膜技術(shù)是一種新穎的材料合成與加工的新技術(shù)，是表面工程技術(shù)領(lǐng)域的重要組成部分。PVD和CVD是真空金屬鍍膜的兩項基本技術(shù)。PVD是一種物理氣相沉積技術(shù)。我們通常把真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜稱為“物理氣相沉積”技術(shù)，簡稱為PVD技術(shù)。這種技術(shù)具有成本低，生產(chǎn)效率高，操作方便等特點，硬度高，具有防銹，防酸堿腐性能力強的優(yōu)點，堅固耐用。CVD（化學(xué)氣相沉積技術(shù)），是透過化學(xué)反應(yīng)將具揮發(fā)性的成分與其它氣體反應(yīng)以產(chǎn)生非揮發(fā)性且沉積在Substrate上的固態(tài)產(chǎn)物如生成導(dǎo)體鎢、多晶系，半導(dǎo)體單晶系，絕緣體介電材料PSG等等。所具備的特點是沉積的種類多樣化，成本低，且能夠批處理。

真空金屬鍍膜的一般工藝流程是：金屬基材首先在大氣中經(jīng)過清潔處理，然后進入真空減壓室，經(jīng)電子槍等預(yù)熱后，使鍍膜材料的分子或原子沉積在行走的金屬基材表面上，經(jīng)冷卻后形成鍍膜層。金屬基材再經(jīng)增壓室回到大氣，這就是連續(xù)式的空到空（Air-to-Air）真空鍍膜。在此流程中的關(guān)鍵技術(shù)是：在真空條件下，利用電子槍發(fā)射出的高能量密度的電子束轟擊坩堝中的鍍膜材料，將材料熔化后，使汽化的原子、分子成為具有一定的蒸發(fā)速率和蒸氣壓力的“蒸氣云”、沉集在沿一定方向運動、表面經(jīng)過預(yù)熱和活化的金屬基材上，冷卻后形成均勻牢固的鍍膜材料的膜層。國際上運用電子束鍍膜技術(shù)的金屬基材寬度達到1.25米，厚度達到1.2毫米，電子槍功率達到1500千瓦，最大鍍膜速度可達到每分鐘200米，鍍膜材料也由開始僅限于金屬鋁，發(fā)展到可鍍銅、鎳、鈦、鉻、不銹鋼等材料。

2、手機配件表面物理氣相沉積錫的工藝

整體工藝大致為：素材檢驗---前處理---裝夾具---上線---手動除塵---自動除塵---預(yù)熱---底噴---流平---IR烘烤---冷卻---UV固化---冷卻---下線檢驗---上架---PVD---下架---上線---自動除塵---預(yù)熱---面噴---流平---IR烘烤---冷卻---UV固化---冷卻---下線檢驗---拆夾具---包裝。由于其它工藝比較簡單，而且可控性好，具體講錫的PVD制作。現(xiàn)目前市面上真空鍍金屬不導(dǎo)電膜主要分為用立式機蒸發(fā)鍍和直流磁控濺射鍍兩種，其中又以立式真空機蒸發(fā)鍍?yōu)橹鳌?/p>

1）立式機磁控濺射法

（1）技術(shù) 分析

眾所周知，磁控機的鍍膜效果受靶材磁場均勻性，氬氣在真空室的分布均勻性以及真空室內(nèi)真空度的均勻程度等難以解決的問題的困擾，而這些問題依然是全世界都存在的技術(shù)瓶頸。還有鍍膜時電壓的穩(wěn)定性，起弧和降壓電流不穩(wěn)定性等等問題。越是大的機型，這些問題越是明顯，造成所制造的產(chǎn)品上中下部位甚至是同位置的產(chǎn)品膜厚和顏色相差懸殊，小型的設(shè)備相對好一些。但是，從生產(chǎn)成本和效率的角度來看，間歇式大型機有產(chǎn)量但沒有質(zhì)量保障，小型機質(zhì)量較好但數(shù)量過低。因此，兩種機型都不理想。

（2）解決方案

用磁控機鍍銀白色金屬不導(dǎo)電膜，既要產(chǎn)量，又要質(zhì)量，唯一的辦法是采用小型連續(xù)式磁控濺射生產(chǎn)線。這種機型，既能相對解決大小型間歇式機型品質(zhì)與數(shù)量的矛盾，又能避開間歇式機型每次鍍膜都得起弧和降壓所帶來的影響。整體上來講，這是現(xiàn)目前最理想的磁控鍍銀白色金屬不導(dǎo)電膜的方式，缺點是設(shè)備投資較高。

2）立式蒸發(fā)鍍膜法

（1）技術(shù) 分析

影響蒸發(fā)鍍膜的效果幾大要素主要為：真空度，真空室空間大小。鍍膜材料的品質(zhì)和份量，蒸發(fā)源的選擇，產(chǎn)品與蒸發(fā)源的距離，蒸發(fā)源相互之間間距，蒸發(fā)電流大小和分布，蒸發(fā)時間，機器公自轉(zhuǎn)速度等等蒸發(fā)源與蒸發(fā)源之間的間距，蒸發(fā)電流的大小和分布，蒸發(fā)時間，機器公自轉(zhuǎn)速度等等。對于立式機，其中，真空度，真空室空間大小。鍍膜材的品質(zhì)和數(shù)量，蒸發(fā)源的選擇，產(chǎn)品與蒸發(fā)源的距離，蒸發(fā)電流大小和分布，蒸發(fā)時間，機器公自轉(zhuǎn)速度等等因素的可控性較高，在技術(shù)上對鍍膜效果影響不大。但由于蒸發(fā)源需要水平裝置，因此蒸發(fā)源之間的間距會較大，而這直接關(guān)系到上中下部位的產(chǎn)品甚至單個產(chǎn)品的不同位置和蒸發(fā)源之間的距離，也就直接影響到它們的厚度，造成單次出爐的產(chǎn)品顏色和導(dǎo)電性不均勻。

（2）解決方案

裝置鎢絲采用十字交叉并多層次高低交錯，適當加裝一些鎢絲，盡可能的使蒸發(fā)源照射范圍呈360度并層次分化距離較小。

3）臥式蒸發(fā)鍍膜法

（1）技術(shù) 分析

結(jié)合上面對蒸發(fā)鍍膜法的 分析 ，由于臥式機型本身就可以使水平裝置的蒸發(fā)源之間零間距，相對立式機，能夠叫好的解決上中下部位的產(chǎn)品甚至單個產(chǎn)品的不同位置和蒸發(fā)源之間的距離，也就是說可以得到較為理想的均勻膜層。唯一不足的地方就是對裝掛方式的要求較高。

（2）解決方案

根據(jù)UV涂裝設(shè)備的產(chǎn)品裝掛方式，結(jié)合臥式機所需的方式，找出雙方面都理想的裝掛方式。

第五節(jié) 國內(nèi)外技術(shù)未來發(fā)展趨勢 分析

表面和薄膜科學(xué)、微電子器件及納米技術(shù)的迅速發(fā)展，將使儀器開發(fā)和監(jiān)測方法體系 研究 成為真空金屬鍍膜技術(shù)中的發(fā)展重點，而電子束蒸發(fā)源將是真空金屬鍍膜技術(shù)中的一種重要的加熱方法和發(fā)展方向。

真空金屬鍍膜技術(shù)的生產(chǎn)線主要有以下幾種發(fā)展趨勢。

1、“空到空”全連續(xù)型。所謂“空到空”（Air-to-Air），指的是首先在大氣中經(jīng)過清潔處理，然后進入真空室，進行鍍膜，再經(jīng)增壓室回到大氣的連續(xù)式生產(chǎn)過程。該生產(chǎn)線包括了金屬基材清潔前處理和緩冷、退火后處理等機組，并有活套裝置以及壓差室。設(shè)備結(jié)構(gòu)和控制系統(tǒng)較復(fù)雜，投資較大，但生產(chǎn)效率高，容易達到規(guī)模產(chǎn)量，真正實現(xiàn)了從原料帶卷到鍍膜基材成品帶卷的真空連續(xù)生產(chǎn)。其電子槍功率為300kW，可加工基材產(chǎn)品為帶寬300毫米，厚0.2～0.8毫米，鍍層2～8微米，帶卷外徑為1米，卷重1噸，鍍膜材料為：鋁、銅、鈦、鎳、鋅、鉻等，金屬基材最大行走速度每分鐘120米，年產(chǎn)量10000噸以上。

2、萬能型。這是目前比較新型的生產(chǎn)線。它的特點是將金屬基材清潔前處理，熱浸鍍，電子束蒸發(fā)鍍?nèi)N工藝串在一起，形成完全連續(xù)式生產(chǎn)線，使?jié)穹ā⒏煞▋煞N鍍膜工藝相互搭配兼容，生產(chǎn)經(jīng)濟、優(yōu)質(zhì)的鍍膜基材。

3、多層鍍膜型。該生產(chǎn)線采用電子束加熱真空鍍膜、真空濺射鍍膜以及等離子輔助氣相鍍膜等多種現(xiàn)代電物理鍍膜方法。金屬基材的前處理分別采用了電子束預(yù)熱清理和輝光放電等離子轟擊?？蓪ν换谋砻?，運用不同鍍膜方法進行多層鍍膜。第一層鍍膜要求附著力好，采用真空濺射鍍膜；第二層使用電子束加熱蒸發(fā)鍍膜，具有電子束能量密度大，加熱溫度高，可鍍材料范圍廣等優(yōu)點；第三層使用等離子增強化學(xué)氣相鍍膜，這種鍍膜均勻光滑，膜層硬，化學(xué)穩(wěn)定性好，可用于最外層保護膜。這種生產(chǎn)線目前還主要用于科研開發(fā)。可加工基材寬度為300、500、800毫米。

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