第一節(jié) 產(chǎn)品定義、性能及應(yīng)用特點
一、目前已經(jīng)使用的蝕刻液類型有六種類型：酸性氯化銅、堿性氯化銅、氯化鐵、過硫酸銨、硫酸/鉻酸、硫酸/雙氧水蝕刻液。
二、各種蝕刻液特點
1、酸性氯化銅蝕刻液：
1)蝕刻機理：Cu+CuCl2→Cu2Cl2Cu2Cl2+4Cl-→2(CuCl3)2-
2)影響蝕刻速率的因素：影響蝕刻速率的主要因素是溶液中Cl-、Cu+、Cu2+的含量及蝕刻液的溫度等。
2、堿性氯化銅蝕刻液
1)蝕刻機理： CuCl2+4NH3→Cu(NH3)4Cl2
Cu(NH3)4Cl2+Cu→2Cu(NH3)2Cl
2)影響蝕刻速率的因素：蝕刻液中的Cu2+濃度、pH值、氯化銨濃度以及蝕刻液的溫度對蝕刻速率均有影響。
3、氯化鐵蝕刻液
1) 蝕刻機理：FeCl3+Cu→FeCl2+CuClFeCl3+CuCl→FeCl2+CuCl2CuCl2+Cu→2 CuCl
2) 影響蝕刻速率的因素：Fe3+濃度、蝕刻液溫度、鹽酸添加量、蝕刻液的攪拌。
4、過硫酸銨蝕刻液
蝕刻機理：Cu+(NH4)2S2O8→CuSO4+(NH4)2SO4(NH4)2S2O8+H2O→H2SO4+(NH4)2SO4+(O)Cu+(O) + H2SO4→CuSO4+H2O
若添加銀作為催化劑， Ag++ S2O82-→2SO42-+ Ag3+Ag3++Cu→Cu2++ Ag+
5、硫酸/鉻酸蝕刻液
蝕刻機理：
CrO3+H2O→H2CrO42H2CrO4+3Cu→Cr2O3 +3CuO +2H2OCr2O3 +3CuO + 6H2SO4→Cr2(SO4)3+3CuSO4+6H2
總反應(yīng)式為：2CrO3+3Cu+6H2SO4→Cr2(SO4)3+3CuSO4+6H2O
6、硫酸/雙氧水蝕刻液
1）蝕刻機理：H2O2→H2O+(O)Cu+(O)→CuO→CuO+H2SO4→H2O+CuSO4
總反應(yīng)式為：Cu+H2O2+H2SO4→2H2O+CuSO4
2）蝕刻工藝流程應(yīng)用酸性蝕刻液進行蝕刻的典型工藝流程如下：
印制正圖像的印制板→檢查修版→堿性清洗（可選擇）→水洗→表面微蝕刻（可選擇）→水洗→檢查→酸性蝕刻→水洗→酸性清洗例如5%～10%HCl→水洗→吹干→檢查→去膜↑
再生應(yīng)用堿性蝕刻液進行蝕刻的典型工藝流程如下：鍍覆金屬抗蝕層的印制板→去膜→水洗→吹干→檢查修版→堿性蝕刻→用不含Cu2+的補加液二次蝕刻→水洗→吹干→檢查。
三、應(yīng)用
蝕刻液在印制電路、電子和金屬精飾等工業(yè)中被廣泛廣泛采用，一般用來蝕刻銅、銅合金、不銹鋼、鐵及鋅、鋁等。雖然近些年來越來越要求再生容易，更加環(huán)保的蝕刻液。
三氯化鐵蝕刻液它的工藝穩(wěn)定，操作方便，價格便宜，因此還仍然被廣大蝕刻加工企事業(yè)單位采用。三氯化鐵蝕刻液適用于網(wǎng)印抗蝕印料、液體感光膠、干膜、鍍金抗蝕層等抗蝕層的印制板的蝕刻。（但不適用于鎳、錫、錫－鉛合金等抗蝕層）。
堿性氯化銅蝕刻液適用于圖形電鍍金屬抗蝕層，如鍍覆金、鎳、錫鉛合金、錫鎳合金及錫的印制板的蝕刻。蝕刻速度快，側(cè)蝕小，溶銅能力高，蝕刻速率容易控制。蝕刻液可以連續(xù)再生循環(huán)使用，成本低。
酸、堿性蝕刻液組成與特點及性能
| 堿性蝕刻液 | 酸性蝕刻液 | |
| 主要成分 | 氯化銅、鹽酸、氯化鈉或氯化胺 | 氯化銅、氨水、氯化氨, 補助成分為氯化鉆、氯化鈉、氯化胺或其它含硫化合物以改善特性 |
| 適用領(lǐng)域 | 一般適用于多層印制板的外層電路圖形的制作或微波印制板陰板法直接蝕刻圖形的制作 | 一般適用于多層印制板的內(nèi)層電路圖形的制作及純錫印制板的蝕刻 |
| 抗蝕劑 | 干膜、液態(tài)光致抗蝕劑等 | 圖形電鍍之金屬抗蝕層如鍍覆金、鎳、錫鉛合金 |
| 主要特點 | 1.蝕刻速率易控制,蝕刻液在穩(wěn)定狀態(tài)下能達到高的蝕刻質(zhì)量 2.溶銅量大 3.蝕刻液容易再生與回收,從而減少污染 | 1.蝕刻速率快,可達70μm/min以上側(cè)蝕小 2.溶銅能力高, 蝕刻容易控制 3.蝕刻液能連續(xù)再生循環(huán)使用,成本低 |
| 控制 | 溫度、比重及PH值 | 溫度、比重、HCl及ORP(氧化/還原電位) |
| 蝕刻速度 | 約1mil/min | 約0.5mil/min |
| 補充藥液 | 氨水 | H2O2、HCl |
| 自動控制成本 | 低 | 高 |
| 毒性 | 低 | 高 |
| 水洗水處理 | 因有金屬餒錯合物,較不易處理 | PH調(diào)整即可分離出銅渣 |
第二節(jié) 發(fā)展歷程
１９９８年，在國家環(huán)保局的大力扶持下，科技部門經(jīng)過多年攻關(guān)， 研究 出了利用廢蝕刻液生產(chǎn)硫酸銅（即銅鹽）的技術(shù)。然而，這一技術(shù)僅回收了廢蝕刻液中的銅，其它重金屬及化學(xué)成份等污染物仍然未得到根本治理。這一技術(shù)只是將電路板生產(chǎn)企業(yè)的污染，轉(zhuǎn)移成了廢蝕刻液回收利用企業(yè)的污染，是一種污染轉(zhuǎn)移，并沒做到清潔生產(chǎn)。
長沙綠銥環(huán)?？萍加邢薰玖肀俾窂?，于２００４年成功研發(fā)出電路板 行業(yè) 專用環(huán)保新設(shè)備“蝕刻液循環(huán)再生機”。它由蝕刻液配方技術(shù)、銅選擇性分離技術(shù)和機電一體化技術(shù)等復(fù)合而成。其特點是將廢蝕刻液導(dǎo)入“蝕刻液循環(huán)再生機”，采用膜分離技術(shù)和電沉積工藝，將銅離子以金屬銅的形態(tài)回收，對其它化學(xué)成份進行再生處理，循環(huán)使用。既避免了外排污染，又大大降低了蝕刻液的使用成本。同時，對洗滌廢水進行去離子處理，最終實現(xiàn)了該工序的零污染排放。
據(jù)介紹，這項技術(shù)屬國內(nèi)首創(chuàng)。其在實現(xiàn)回收銅的同時讓蝕刻液循環(huán)使用，被專家們認定為電路板 行業(yè) 清潔生產(chǎn)的一項革命性成果。“蝕刻液循環(huán)再生機”于２００４年５月通過湖南省科技成果鑒定。今年２月，國家環(huán)?？偩謱⑵淞袨?ldquo;２００６年度國家重點環(huán)境保護實用技術(shù)”。據(jù)記者了解，該公司已向國家申請了該設(shè)備的知識產(chǎn)權(quán)保護。
第三節(jié) 產(chǎn)品產(chǎn)業(yè)鏈構(gòu)成
一種產(chǎn)品要從圖紙上的模型變?yōu)槿藗兪种惺褂玫膶嶋H器具，中間要經(jīng)過多個環(huán)節(jié)：包括產(chǎn)品的研發(fā)，核心元件的生產(chǎn)，產(chǎn)品的加工組裝，產(chǎn)品的銷售，以及售后服務(wù)等。這些環(huán)節(jié)環(huán)環(huán)相扣，形成了一根完整的鏈條，它就被稱為“產(chǎn)業(yè)鏈”。
在同一條產(chǎn)業(yè)鏈上，既有技術(shù)開發(fā)、產(chǎn)品設(shè)計這樣的前端環(huán)節(jié)，也有原材料供應(yīng)、生產(chǎn)制造這樣的中間環(huán)節(jié)，還有品牌推廣與市場銷售這樣的末端環(huán)節(jié)。雖然每個環(huán)節(jié)都是產(chǎn)業(yè)鏈條上必不可少的組成，但各環(huán)在整個產(chǎn)業(yè)鏈上的地位作用是不同的。前端的研發(fā)和后端的銷售會對整條鏈起到?jīng)Q定性的控制作用，而中間的制造環(huán)節(jié)則處于被動的受控制地位。
第四節(jié) 產(chǎn)品在產(chǎn)業(yè)鏈中的地位及影響
酸性氯化銅、堿性氯化銅、氯化鐵、過硫酸銨、硫酸/鉻酸、硫酸/雙氧水蝕刻液均屬于無機鹽制造業(yè)，無機鹽制造業(yè)為蝕刻液的上游產(chǎn)業(yè)。
蝕刻液生產(chǎn)方法
